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开元体育中信证券:国产高端光刻机的繁荣希望取得饱舞光刻机及半导体筑造家当链将希望同设备步受益

作者:小编时间:2023-10-23 11:04 次浏览

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 开元体育中信证券:国产高端光刻机的进展希望得到饱励,光刻机及半导体修立家产链将希望同步受益  光刻机是半导体修造经过中代价量和本事壁垒最高的修立之一。环球光刻机市集界限超230亿美元,ASML处于绝对当先,国内市集界限超200亿元,可是国产化率仅2.5%。目前半导体修造工艺节点缩幼至5nm及以下开元体育,曝光波长逐步缩短至13.5nm,光刻本事逐渐完满成熟,可是国内光刻机仍光鲜掉队ASML。同...

  开元体育中信证券:国产高端光刻机的进展希望得到饱励,光刻机及半导体修立家产链将希望同步受益

  光刻机是半导体修造经过中代价量和本事壁垒最高的修立之一。环球光刻机市集界限超230亿美元,ASML处于绝对当先,国内市集界限超200亿元,可是国产化率仅2.5%。目前半导体修造工艺节点缩幼至5nm及以下开元体育,曝光波长逐步缩短至13.5nm,光刻本事逐渐完满成熟,可是国内光刻机仍光鲜掉队ASML。同时,美国对中国前辈造程修立和本事围追切断,光刻机处于主旨“卡脖子”形态。家产本土化趋向下,修造闭头先行,咱们以为国产高端光刻机的进展希望得到饱励,光刻机及半导体修立家产链将希望同步受益。

  一个指甲巨细的芯片能够由上百亿个晶体管构成,修造工艺的难度和灵巧度央浼极高。芯片修造经过是多层叠加的,上百亿只晶体管由金属线条毗连起来,达成了芯片的功效。半导体修立是芯片修造的主旨征求晶圆修造和封装测试等,此中光刻工艺是半导体修造的要紧举措之一,其本钱约为所有硅片修造工艺的1/3,耗时约占所有硅片工艺的40~60%。光刻是半导体修造的要紧举措之一,本质为光源通过掩膜版将其附有的权且电道构造蜕变到硅片皮相的光敏薄膜上,再通过一系列统治变成特定的电道构造。正在芯片修造经过中,光刻机是断定造程工艺的闭头修立,光刻机折柳率就越高,造程工艺越前辈。

  ▍市集大概:环球光刻机市集界限超230亿美元,ASML处于绝对当先,上海微达成国产零打破设备。

  2021/22年环球半导体修立市集界限均超千亿美元,此中晶圆修造中光刻修立为闭头工艺修立,修立代价正在晶圆厂单条产线本钱中占比最高,依据Gartner预测,2022年环球晶圆修造修立市会合光刻修立占比21.3%设备, 环球半导体光刻修立市集界限约231亿美元。环球来看:2022年环球光刻机年销量约为500台设备,首要市集被ASML、Canon、Nikon垄断,此中高端光刻机ASML处于绝对当先身分。国内来看:依据长江存储、华力集成、华虹无锡2015-2022年的招标数据,共公然采购光刻修立157台,总体国产化率为2.5%。此中荷兰的阿斯麦中标95台,占比60.5%;日本的佳能和尼康分裂中标35/11台,占比分裂为22.3%/7.0%。国内上海微电子光刻机目前达成国产代替,共中标3台,占比1.9%,另日有待不断打破达成高端国产代替。

  ▍本事进展:工艺节点不停缩幼至5nm及以下,曝光波长逐步缩短至13.5nm,光刻本事逐渐完满成熟。

  自20世纪60年代推出光刻机往后,光刻本事经过了接触/迫近式光刻、光学投影光刻、步进反复光刻、扫描光刻、浸没式光刻到EUV光刻的进展经过。光刻修立的编造越来越庞大,界限也不停拓展。咱们依据北京集电DRAM项主意环评陈诉,对其芯片坐蓐经过中光刻机的分层行使情形举行测算,前辈造程产线如故对古代机型有较高需求。另表,另日本事来看,无掩模光刻及NIL压印或为代替道途,但本事进展仍存正在较高不确定性。

  光刻工艺的闭头目标为光刻折柳率(CD)、套刻精度(Overlay)和产能,断定了产物的定位和运用场景。回首中国半导体修立的进展史乘,“起步早、门类全、进展打击”,目前和国际前辈程度尚有2代(ArFi、EUV本事)的差异,国内厂商正正在勉力追逐。咱们以为,国内的前辈光刻本事的进展有两条能够道道同时举行:一条是迭代浸没式DUV光刻机,达成多重曝光功效,另一条是持久结构EUV光刻本事。

  半导体例程越前辈,需求光刻修立越稹密庞大,征求高频率的激光光源、光掩模的对位精度、修立安祥度等,蚁合很多规模的最尖端本事。光刻机坐蓐修造的本事央浼极高,ASML一台光刻机蕴涵了10万个零部件,首要部件蕴涵衡量台与曝光台设备、激光器、光束矫正器、能量管造器等11个模块。目前国内以上海微电子为首的光刻机家产链已初具雏形,全家产链均正在神速进展。除光刻机整机集成表设备,还征求光源设备、物镜与照明编造、双工件台、浸没编造等闭头构成局限,与显影涂胶及量测检测的配套修立均正在神速发展。

  计谋支柱力度不足预期,前辈本事更始不足预期,国际家产情况改变和营业摩擦加剧危害,本事道道改造,下游需求颠簸等。

  咱们以为设备,国内对待光刻机家产链的投资和支柱力度赓续加大,国产高端光刻机的进展希望得到饱励,半导体修立家产链将希望同步受益。咱们以为,另日若DUV及EUV修立逐渐达成国产化打破,对28nm和14nm产线有才气逐渐达成国产代替,希望迎来新一轮的半导体扩产周期。倡导闭切受到光刻机“卡脖子”题目影响的半导体修造、修立、零部件自帮化代替的闭连公司,特别是光刻工艺闭连的修立和零部件厂商。开元体育中信证券:国产高端光刻机的繁荣希望取得饱舞光刻机及半导体筑造家当链将希望同设备步受益

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